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磁控濺射鍍膜

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磁控濺射鍍膜

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項目介紹

磁控濺射法是在高真空充入適量的氬氣,在陰極(柱狀靶或平面靶)和陽極(鍍膜室壁) 之間施加幾百K 直流電壓,在鍍膜室內(nèi)產(chǎn)生磁控型異常輝光放電,使氬氣發(fā)生電離。

氬離子被陰極加速并轟擊陰極靶表面,將靶材表面原子濺射出來沉積在基底表面上形成薄膜。通過更換不同材質(zhì)的靶和控制不同的濺射時間,便可以獲得不同材質(zhì)和不同厚度的薄膜。

磁控濺射法具有鍍膜層與基材的結(jié)合力強、鍍膜層致密、均勻等優(yōu)點。

樣品要求

下單前確認鍍膜條件包括:真空度,保護氣體及其流量,工作壓力,濺射功率,濺射時間,基板偏置電壓等。如果不知道濺射條件,也可以告知濺射鍍膜厚度條件實驗室按照經(jīng)驗確定。

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